首页> 外文期刊>Электрохимия >ВЛИЯНИЕ УСЛОВИЙ ОСАЖДЕНИЯ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ И МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК СеО2, ДОПИРОВАННЫХ Sm2O3, ПРИГОТОВЛЕННЫХ МЕТОДАМИ ФИЗИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА И ИЗ ИОННОГО ПУЧКА. МЕХАНИЧЕСКИЕ ТВЕРДОСТЬ И МОДУЛЬ УПРУГОСТИ
【24h】

ВЛИЯНИЕ УСЛОВИЙ ОСАЖДЕНИЯ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ И МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК СеО2, ДОПИРОВАННЫХ Sm2O3, ПРИГОТОВЛЕННЫХ МЕТОДАМИ ФИЗИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА И ИЗ ИОННОГО ПУЧКА. МЕХАНИЧЕСКИЕ ТВЕРДОСТЬ И МОДУЛЬ УПРУГОСТИ

机译:通过在电子束作用和离子束的作用下通过物理沉淀法制备的SM2O3掺杂的SM2O3掺杂的薄CEO2薄膜电气和力学性能的影响。 机械硬度和弹性模量

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Исследовано влияние условий осаждения (состава, температуры осаждения Т_(dep) и бомбардировки ионами Аr~+) на электрические и механические свойства (микротвердость H_(pl) и модуль упругости Y) поликристаллических тонких пленок СеO2 + хSm2O3 (х = 0, 10.9-15.9 мол. %), приготовленных методами физического осаждения на кремниевую подложку из паров под действием электронного луча и из ионного пучка. Эти механические характеристики исследованы методом индентирования, чувствительного к глубине, как функции относительной глубины вдавливания h_(rel) = h_(max)/t, полученные данные сравнены с результатами измерений по классическому методу Виккерса.
机译:沉淀条件(组成,沉淀T_(DEP)和轰击离子AR〜+)对CE2 + XSM2O3的多晶薄膜的电力和机械性能(Michuardness H_(PL)和弹性模块Y)的影响(x = 0,10.9-15.9商场。%),通过在电子束的作用和离子束下的蒸汽上的硅衬底上物理沉积方法制备。通过本发明方法对深度敏感的方法研究了这些机械特性,作为感应的相对深度H_(rel)= h_(max)/ t的功能,将获得的数据与根据古典维克斯方法的测量结果进行比较。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号