PLD法による硫黄ドープチタン酸化物薄膜の合成と評価（その2）

摘要

真空中からアルゴン雰囲気で常圧付近まで昇圧し脱気することを2回線り返したあと，二硫化炭素を所定圧力導入し，PLD法による製膜実験を行った．図13に示した，AFM観察および膜厚測定結果から，二硫化炭素ガス分圧1.4×10~(-2)Torrまでは分圧の上昇につれ薄膜表面の凹凸が大きくなり膜厚も増大するが，それ以上の分圧では凹凸構造，膜厚ともに小さくなっていくことが分かった．