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郭茂田; 田臻锋; 陈兴科;
中国科学院安徽光学精密机械研究所;
郑州大学物理工程学院;
ZnO薄膜; PLD; 衬底温度;
机译:PLD法沉积Al掺杂ZnO薄膜上生长的ZnO纳米晶体的特性
机译:沉积条件对真空过滤电弧沉积ZnO-SnO_2薄膜特性的影响
机译:CBD法沉积时间对太阳能沉积ZnO薄膜光学,结构和形貌特性的影响
机译:沉积参数和锶掺杂对化学浴沉积法的纳米结构ZnO薄膜特性的影响
机译:KNbO3,YBa2Cu3O7-δ和通过脉冲激光沉积(PLD)制造的两种材料的多层薄膜的生长和特性(西班牙语)。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:浓度对水化学生长(ACG)法沉积ZnO薄膜的光学和固态特性的影响
机译:退火脉冲激光沉积(pLD)氧羰基硫酸铯(Cs2moOs3)薄膜的表征
机译:控制电化学测试条件的,能够在短时间内沉积均匀的ZnO薄膜的ZnO的电沉积方法与现有方法相比较
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译:紫外辅助化学气相沉积法在聚合物基体上沉积掺杂的ZnO薄膜
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