統計パターン比較と特徴的はずれ値検出による微小欠陥の認識手法

摘要

半導体回路パターンの比較検査においては，規則的に形成されたパターンを撮像し，隣接するパターンの明るさの善が大きい部分を欠陥として検出するが，正常パターンの微妙な形状の違いも検出してしまう．このため，複数の繰返しパターンからノイズを抑制した統計パターンを生成し，さらにノイズの影響を抑制した特徴空間を形成し，このデータに基づいて画素ごとに明るさを変換して微細欠陥を認識する方式を立案した．実験により，パターンのラフネスに対して立案方式の有効性を確認した．