ナノインプリントによる光学デバイス：光ナノインプリントによる超微細パターン形成

摘要

ナノインプリント技術は型を用いた加工技術であり，比較的簡単な装置構造にもかかわらず，極微細パターンの形成が可能であることから，近年注目を集めている微細加工技術である。 この微細性に関しては，現在の最新のLSIの作製のために用いられている光リソグラフィーよりも何世代も先の微細なパターンを作製する能力がある。 米国プリンストン大学のChou教授のグループはナノインプリントにより，5nm線幅で14nmピッチのパターンの作製に成功している。 ただし，この値がナノインプリントの限界というわけではなくさらに微細な加工も可能と考えられている。