静電容量測定法によるマイクロ流路内の微粒子濃度分布の計測

摘要

筆者らは、MEMSプロセス技術により、マイクロ流路内に1断面あたり12個の電極を配置し、5つの計測断面を有する多層電極内装型マイクロ流路を作製し、非定常な粒子濃度分布の時間変化を計測できることを示し［16］、マイクロ流路内の微粒子マイグレーションに及ぼす粒子径の影響を報告した。そこで、本研究は、静電容量測定法を用いて、初期微粒子濃度をパラメータとし、多層電極内装型マイクロ流路内の上流側と下流側とで、流路断面の濃度分布を計測し、流路断面における微粒子マイグレーションに対する初期微粒子濃度の影響を検討することを目的とする。