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机译:使用含有少量氧化自由基的氢自由基除去KRF和ARF光致抗蚀剂的聚合物
Kagawa Coll Natl Inst Technol Dept Elect &
Comp Engn 355 Chokushi Cho Takamatsu Kagawa 7618058 Japan;
Kagawa Coll Natl Inst Technol Dept Elect &
Comp Engn 355 Chokushi Cho Takamatsu Kagawa 7618058 Japan;
Kagawa Coll Natl Inst Technol Dept Elect &
Comp Engn 355 Chokushi Cho Takamatsu Kagawa 7618058 Japan;
Kagawa Coll Natl Inst Technol Dept Elect &
Comp Engn 355 Chokushi Cho Takamatsu Kagawa 7618058 Japan;
Kagawa Coll Natl Inst Technol Dept Elect Syst Engn 551 Kohda Takuma Cho Mitoya Kagawa 7691192 Japan;
Shizuoka Univ Grad Sch Integrated Sci &
Technol Joho Ku Naka Ku Hamamatsu Shizuoka 4328561 Japan;
Osaka City Univ Grad Sch Engn Sumiyoshi Ku 3-3-138 Sugimoto Cho Osaka 5588585 Japan;
Photoresist; Removal; Hydrogen radical; Oxygen addition; Environment;
机译:使用含有少量氧化自由基的氢自由基除去KRF和ARF光致抗蚀剂的聚合物
机译:铱热线催化剂中产生的H基团氧添加量与光致抗蚀剂去除率之间的关系
机译:铱热线催化剂上产生的H自由基的氧添加量与光刻胶去除率的关系
机译:平板结构结合数值分析估计氢自由基在ArF光刻胶上的附着系数
机译:“活性” /受控自由基聚合:从乳液原子转移自由基聚合到合成新的氮氧化物以稳定自由基聚合。
机译:异戊二烯过氧自由基1–5氢转移反应的多代理论研究该反应可再生HOx自由基并产生高度氧化的分子
机译:氮气稀释对氢气自由基光致抗蚀剂去除率的影响
机译:活性/可控自由基聚合。在常规自由基引发剂存在下的过渡金属催化的原子转移自由基聚合