机译:基材清洁过程对溅射CdTE薄膜膜的针孔形成的影响
Ctr Invest &
Estudios Avanzados IPN Unidad Merida Dept Fis Aplicada Km 6 Antigua Carretera Progreso AP 73 Cordemex Merida 97310 Yucatan Mexico;
Univ Anahuac Mayab Div Ingn &
Ciencias Exactas Carretera Merida Progreso Km 15-5 AP 96 Cordemex Merida 97310 Yucatan Mexico;
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Estudios Avanzados IPN Unidad Merida Dept Fis Aplicada Km 6 Antigua Carretera Progreso AP 73 Cordemex Merida 97310 Yucatan Mexico;
CdTe films; pinhole; sputtering; substrate cleaning;
机译:基材清洁过程对溅射CdTE薄膜膜的针孔形成的影响
机译:不同衬底温度下反应溅射法制备Ni-N薄膜的过程
机译:通过近距离升华和RF磁控溅射在超薄玻璃基板上生长的CDTE薄膜的综合对比研究
机译:在原子清洁Si基板上的无针孔外延Resi_(2-X)薄膜的生长
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:磁控溅射对CdTe薄膜微结构光学和电学性质的基靶距离调节
机译:通过极清洁的溅射工艺制造的Ag-Co膜的微观结构和巨磁阻。与Cu-Co膜比较。