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机译:铝6063的发射率模型,氧化膜在温度范围内为1.5μm的波长为1.5μmk
Henan Normal Univ Coll Phys &
Mat Sci Xinxiang 453007 Peoples R China;
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emissivity model; oxide film; temperature measurement; aluminum 6063; oscillation of emissivity;
机译:铝6063的发射率模型,氧化膜在温度范围内为1.5μm的波长为1.5μmk
机译:表面氧化在1.5 mu m的红色铜T1正常发射率的建模效果,温度范围为800至1100 k
机译:在空气中800至1100 K的温度范围内,模拟表面氧化对316L钢在1.5微米下的正光谱发射率的影响
机译:适用于1.3 / spl sim / 1.5 / spl mu / m波长范围的全单片InAlGaAs / InP VCSEL
机译:交流磁控溅射在低温下沉积的生物相容性氧化铝膜的性能。
机译:在1.55 µm波长范围内用于传感应用的多模光纤结构上沉积的溅射掺杂铝的氧化锌薄膜上产生有损模共振
机译:溅射铝掺杂氧化锌薄膜上的有损模式共振发电,用于在多模光纤结构上进行传感在1.55μm波长范围内的应用
机译:反应溅射沉积法制备锌,铝和钒(及相关系统,金和锗氧化物,铝和钨氮化物)氧化物的低温薄膜生长