>This International Standard specifies a procedure by which elemental detection limits in X‐ray photoelectron spectr'/>
机译:ISO / TC 201标准摘要:ISO 19668-表面化学分析 - X射线光电子能谱估算和报告均质材料元素的检测限制
Surface TechnologyNational Physical LaboratoryUK;
Surface TechnologyNational Physical LaboratoryUK;
detectability; detection limits; peak area; uncertainty; XPS;
机译:ISO / TC 201标准摘要:ISO 19668-表面化学分析 - X射线光电子能谱估算和报告均质材料元素的检测限制
机译:ISO / TC 201标准摘要:XVIII,ISO 19318:2004-表面化学分析-X射线光电子能谱-电荷控制和电荷校正方法的报告
机译:ISO / TC 201标准摘要:XIX ISO 17331:2004-表面化学分析-从硅晶片工作参考材料表面收集元素的化学方法,并通过全反射X射线荧光剂测定
机译:工艺刻蚀等离子体过程中的发射光谱学与X射线光电子能谱技术的比较研究
机译:利用光电子能谱和氙气化学探针研究化学修饰的钼(100)表面(化学吸附)。
机译:X射线光电子能谱对痕量表面污染物的定量分析第一部分:检测极限附近的统计不确定性
机译:ISO / TC 201标准概述:ISO 22415表面化学分析 - 二次离子质谱法测定氩气簇溅射深度剖面中的产量体积
机译:环烷酸铅化学吸附至亲核表面的X射线光电子能谱研究