机译:基于功率的基于电力密度的低成本溶液加工Al掺杂ZnO薄膜的退火效应分形分分
Guru Ghasidas Vishwavidyalaya Dept Pure &
Appl Phys Bilaspur 495009 India;
Guru Ghasidas Vishwavidyalaya Dept Pure &
Appl Phys Bilaspur 495009 India;
Al doped ZnO thin film; atomic force microscopy; correlation length; power spectral density; fractal dimension; Hurst exponent;
机译:基于功率的基于电力密度的低成本溶液加工Al掺杂ZnO薄膜的退火效应分形分分
机译:快速热退火法低温合成溶胶凝胶衍生的铝掺杂ZnO薄膜
机译:快速热退火后室温下无反应直流磁控溅射Al掺杂ZnO薄膜的组织和性能
机译:对空间原子层退火时的光学,电和元素特性的研究(SALD)Al掺杂ZnO薄膜
机译:ZnO和ZnO基薄膜合金退火的函数的温度依赖带边缘分布分析
机译:添加锌和真空退火时间对旋涂低成本1 at%Ga–ZnO薄膜透明导电薄膜性能的影响
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)