...
机译:YBA2Cu3O7 +(BasnO3)'/ YBA2Cu3O7 +(BasnO3)''多层膜的制造和临界电流密度分析
Kyushu Inst Technol Dept Mat Sci &
Engn Tobata Ku 1-1 Sensui Cho Kitakyushu Fukuoka 8048550 Japan;
Kyushu Inst Technol Dept Mat Sci &
Engn Tobata Ku 1-1 Sensui Cho Kitakyushu Fukuoka 8048550 Japan;
Cent Res Inst Elect Power Ind Elect Power Engn Res Lab Yokosuka Kanagawa 2400196 Japan;
Kyushu Inst Technol Dept Mat Sci &
Engn Tobata Ku 1-1 Sensui Cho Kitakyushu Fukuoka 8048550 Japan;
vortex pinning; multilayer; YBCO;
机译:YBA2Cu3O7 +(BasnO3)'/ YBA2Cu3O7 +(BasnO3)''多层膜的制造和临界电流密度分析
机译:通过各种制造工艺制备的Sm_(1 + x)Ba_(2-x)Cu_3O_y薄膜的位错密度和临界电流密度
机译:钯纳米点间隔的YBa_2Cu_3O(7-δ)多层膜的临界电流密度的改善
机译:在双轴织构金属基底上外延沉积YBCO厚膜制备高临界电流密度超导带
机译:通过CVD硼薄膜的异位退火生长的超导二硼化镁薄膜中的临界电流密度的研究。
机译:退火工艺在Ag基BaSnO3多层薄膜中的作用
机译:单线圈电感法测量超导薄膜临界电流密度的离散模型分析
机译:不同浓度BasnO3(后印刷)YBa2Cu3O7-x + BasnO3薄膜的临界电流密度和微观结构变化。