机译:硅离子照射氮化锆薄膜的结构和电性能研究
Univ Poonch Dept Phys Rawalakot 12350 Pakistan;
Univ Poonch Dept Phys Rawalakot 12350 Pakistan;
Univ Poonch Dept Phys Rawalakot 12350 Pakistan;
Abdul Wali Khan Univ Dept Phys Mardan 23200 Pakistan;
Abdul Wali Khan Univ Dept Phys Mardan 23200 Pakistan;
Int Islamic Univ Dept Phys Islamabad 44000 Pakistan;
Quaid i Azam Univ Natl Ctr Phys Islamabad 45710 Pakistan;
Pakistan Inst Engn &
Appl Sci Dept Met &
Mat Engn Islamabad Pakistan;
Northwestern Polytech Univ Sch Mat Sci &
Engn Xian 710072 Shaanxi Peoples R China;
Mirpur Univ Sci &
Technol Dept Phys Mirpur 10250 Pakistan;
ZrN; cathodic arc ion; Raman shift; irradiation;
机译:硅离子照射氮化锆薄膜的结构和电性能研究
机译:真空电弧离子沉积氮化锆薄膜的结构和电阻率特性
机译:氮浓度对氮化钽锆薄膜结构,化学和电性能的影响
机译:热线化学气相沉积法沉积掺杂微晶硅薄膜的结构和电性能的比较研究
机译:纳米氮化钛/二硼化钛和氮化锆/二硼化锆薄膜的结构,力学性能和高温稳定性。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:非晶氮氧化硅和氮化硅膜中结构缺陷的光电性能
机译:反应离子镀制备氮化钛和氮化锆薄膜的结构与性能