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机译:使用原位温度控制损伤前进掺杂过程的离子植入控制
Sungkyunkwan Univ 2066 Seobu Ro Suwon 16419 Gyeonggi Do South Korea;
Axcelis Technol Inc 108 Cherry Hill Dr Beverly MA 01915 USA;
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Sungkyunkwan Univ 2066 Seobu Ro Suwon 16419 Gyeonggi Do South Korea;
Ion implantation; Implant damage; Implant defect; Shallow junction;
机译:使用原位温度控制损伤前进掺杂过程的离子植入控制
机译:在低温溶液中无需烧制就可“软溶液处理”在低温溶液中原位制备形貌可控的高级陶瓷材料
机译:微波和常规加热方法在原位温度控制环测量的不同温度下聚丙烯腈基稳定纤维碳化中的比较
机译:原位掺杂和离子注入控制SiC的电导率
机译:氮化铝镓/氮化镓金属有机化学气相沉积工艺中的实时原位化学传感,可进行高级过程控制。
机译:通过共掺杂和控制励磁功率来改善掺Er3 +的Y2O3微管的光学温度传感性能
机译:'软解决方案处理在不烧制的低温溶液中的形态控制的先进陶瓷材料的原位制造