高温高圧技術が拡げる次世代半導体の世界：量産化が難しい窒化ガリウム（GaN）の製造技術にIHI機械システムが挑hだ

摘要

光デバイス，パワーデバイスの性能向上と普及に欠かせない次世代半導体「窒化ガリウム（GaN）」．株式会社IHI機械システム（IMS）と株式会社IHIではGaNの量産化に向けた高温高圧炉の開発を行っている．GaN半導体とは何か？その製造の鍵となる炉はどのようなものなのか？