机译:使用脉冲调制的高密度等离子体纳米尺度蚀刻CoFeB薄膜
Inha Univ Ctr Design &
Applicat Mol Catalysts Dept Chem &
Chem Engn 100 Inharo Incheon 22212 South Korea;
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CoFeB; Pulse-modulated high density plasma; Nanometer-scale etching; CH4/O-2/Ar;
机译:使用脉冲调制的高密度等离子体纳米尺度蚀刻CoFeB薄膜
机译:高密度等离子体反应离子刻蚀CoFeB薄膜的刻蚀轮廓演变
机译:CH_4 / Ar等离子体对CoFeB磁性薄膜的高密度等离子体反应离子刻蚀
机译:高密度Ar / Cl_2 / HBr等离子体刻蚀铂薄膜
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:氢离子能量在氢等离子体中Sn薄膜反应离子蚀刻过程中的影响
机译:用于器件应用的III族氮化物薄膜的高密度等离子体蚀刻