机译:缓冲层沉积次数对聚对苯二甲酸乙二醇酯基底偶氮膜结构和光学性质的影响
Changchun Univ Technol Minist Educ Key Lab Adv Struct Mat Changchun 130022 Jilin Peoples R China;
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Deposition; buffer layer; optical properties; sputtering;
机译:Al $ _2 $ O $ _3 $缓冲层的沉积时间对聚对苯二甲酸乙二醇酯基底上AZO薄膜结构和光学性能的影响
机译:SiO_2缓冲层厚度对在聚对苯二甲酸乙二醇酯基底上沉积的ITO / Cu / ITO多层膜性能的影响
机译:通过过滤真空电弧沉积生长的三层AZO / ZnMgO / AZO薄膜的电,光学和结构性质
机译:用丝网印刷技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)底物上制备银薄膜的表面形态和结构性
机译:聚丙烯(PP)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)原纤维混合通过微/纳米层挤出技术的可调谐拉伸性能
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:$$ hbox {Al} _ {2} _ {2} hbox {O} _ {3} $$ Al 2 O 3缓冲层对聚对苯二甲酸乙二醇酯基底的结构和光学性质的影响