机译:Si基材RF溅射ITO薄膜的表面形态,结构和电性能
Univ Ferhat Abbas LESIMS Dept Phys Setif 1 Setif 19000 Algeria;
Univ Ferhat Abbas LESIMS Dept Phys Setif 1 Setif 19000 Algeria;
Univ Ferhat Abbas LESIMS Dept Phys Setif 1 Setif 19000 Algeria;
Univ Valenciennes Hainaut Cambresis CNRS IEMN UMR 8520 F-59309 Valenciennes France;
Univ Valenciennes Hainaut Cambresis CNRS IEMN UMR 8520 F-59309 Valenciennes France;
Univ Valenciennes Hainaut Cambresis CNRS IEMN UMR 8520 F-59309 Valenciennes France;
ITO thin films; sputtering; structure; electrical properties; AFM; Hall effect;
机译:Si基材RF溅射ITO薄膜的表面形态,结构和电性能
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