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周平贤; 刘兴钊; 李言荣;
中国航空学会;
测控技术编辑部;
氮化钽薄膜; 射频磁控溅射; 方阻; 氮化钽压阻材料; Si基片温度; 薄膜应变计; 电性能;
机译:Ta-N薄膜和Ta / Ta-N多层嵌入式电阻器的电学和结构性能
机译:退火温度对磁控溅射低电阻率Si / Si-N / Ta-N薄膜微结构和光致发光的影响
机译:DC,脉冲DC和高功率脉冲磁控溅射TA-N膜的结构,相位演化和机械性能
机译:厚度对氮化锆薄膜的微观结构,电和光学性能在室温下通过DC反应磁控溅射制备的氮化锆薄膜
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:通过磁控溅射制备TE-SB2SE3薄膜的结构形态和光电性能
机译:RF磁控溅射生长的Cu掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电性能:太阳能光催化的应用
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:片状结构纳米薄膜与可改善纳米薄膜的电,机械和光学性能的基质之间的可靠性改进装置和方法
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
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