旭硝子、次々世代半導体製造の極超紫外線用フォトマスク材開発着手

摘要

旭硝子と米国の半導体研究開発組織「インターナショナル·セマテック（ISMT）」は、次々世代の半導体製造工程でのEUV（極超紫外線）フォトリソグラフィ（露光による回路パターン形成）に用いられるフォトマスク（回路バターン原版）材料を共同開発することで合意した。 旭硝子は今後、ISMTとニユーヨーク州立アルバニー校が設立した「フォトマスク材料開発センター」に研究員を派遣して共同研究するとともに、ISMTに研究開発用のフォトマスク材料を供給する。