フレキシブルなカーボンナノチューブ透明導電フイルム＜室温、大気中処理によリブラスチック基板に直接成膜＞

摘要

透明電極は、液晶パネルや有機ELなどのフラットパネルディスプレイ、タッチパネル、太陽電池などに広く用いられている。透明導電膜として現在主に使用されている酸化インジウムスズ（ITO）膜は、可視光の透過率が90％にのぼり、低抵抗な優れた材料であるが、希少金属であるインジウムを用いているため、近年資源の枯渇が心配される材料である。ITO膜は一般的にはスパッタリングで作製されるが、近年ITOをインク化して塗布し、加熱により導電膜とする手法の開発も進hでいる。印刷により成膜できるので低コスト化が見込めるが、現時点ではスパッタ装置で成膜したITO膜に比べて抵抗率が1～2桁大きくなり、低抵抗化が求められている。また、ITO膜はもろく、曲げにも弱いという欠点があり、現在精力的に進められているフレキシブルデバイスへの活用には課題が残る。