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CF4四弗化炭素エッチングガス主力の地位不動

机译:CF4四氟化物蚀刻气体主力状态

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摘要

四弗化炭素(CF4)の2011年の需要量は前年比5%減の450tと推定される。同ガスは半導体製造工程のエッチング用ガスとして主力であるが、地球温暖化効果ガスとして排出量の削減が求められている。半導体不況と排出量削減が相まって2009年には357tと同27%減と大幅な出荷量減少となっている。しかし、10年は475.9t、33.3%増と急回復した。
机译:2011年的四氟化物(CF4)的需求估计是比上年的450吨。 同一气体是作为用于蚀刻半导体制造工艺的气体的主生药,但是需要减少排放作为全球变暖效果气体。 2009年,半导体经济衰退和减排已减少,2009年的357T减少了27%和大量发货。 但是,10年已迅速恢复475.9T和33.3%。

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