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導電性に優れダイヤ並みの硬さをもつ炭素皮膜の量産化を実現

机译:达到高导电性和金刚石硬度的碳膜块生产

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摘要

どうしてカーボンの研究を始めたかという経緯ですが、私はもともとNTTの研究所でハードディスク関連の研究に携わっておりまして、主にハードディスクに使われる磁性材料についての研究をしていました。 当時は、ハードディスクの信頼性を高めるためのトライポロジーが、非常に重要な技術になっていました。 ハードディスクでは、ヘッドクラッシュが一番怖いため、トライポロジーという観点から磁性膜を保護する研究を始めたわけです。 ハードディスクの保護膜の研究を行うための一番のポイントは、非常に薄い膜をつくる技術を開発することでした。 とくに、最近のハードディスクに使われる保護膜は、5~3nmと非常に薄い膜をつくることが要求される世界になっていますので、いろいろな材料の薄膜を検討し、その中からカーボンによる保護膜がハードディスク向けとして適していると考えたことから、炭素皮膜による保護材の開発を開始したわけです。
机译:这是您是否已经开始碳研究的历史,但我最初参与NTT实验室的硬盘相关研究,主要研究用于硬盘的磁性材料。那时,推动学改善硬盘可靠性是一个非常重要的技术。在硬盘上,头部崩溃最害怕,因此我们开始研究以保护磁性电影免受推迁学的观点。研究硬盘保护膜的最多点是开发一种制造非常薄膜的技术。特别地,用于最近硬盘的保护膜是创建一个带5-3 nm的非常薄膜所需的世界,因此我们将从碳保护膜上检查各种材料的薄膜,因为我认为是适用于硬盘,我们开始通过碳膜开发保护材料。

著录项

  • 来源
    《工業材料》 |2005年第6期|共4页
  • 作者

    廣野 滋;

  • 作者单位

    NTTアフティ(株)ECR事業部;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工程材料学;
  • 关键词

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