日焼けによる肌乾燥メカニズムを解明

摘要

東京工科大学の正木仁教授らの研究グループは、日焼けによる肌乾燥のメカニズムを解明した、と発表した。研究では、紫外線を照射した剥離角層からの活性酸素生成は、活性酸素反応の化学発光プローブ（活性酸素の検出に用いられる海ホタルルシフェリン類縁体）を用いた手法で確認した。