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机译:脉冲非常高频率等离子体增强硅膜的化学气相沉积,用于低温(120℃)薄膜晶体管
Osaka Univ Grad Sch Engn Dept Precis Engn 2-1 Yamada Oka Suita Osaka 5650871 Japan;
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atmospheric-pressure plasma; low-temperature deposition; silicon; thin film transistors; pulse modulation;
机译:脉冲非常高频率等离子体增强硅膜的化学气相沉积,用于低温(120℃)薄膜晶体管
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