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Fabrication of Si Micro Mold via Tribo-Nanolithography Using Micro Polycrystalline Diamond Cantilever Tool

机译:使用微晶型悬臂工具通过摩擦纳米线制备Si微模制造

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摘要

A direct mechanical nanomachining, tribo-nanolithography (TNL), has been developed to fabricate micro mold on Si substrate in mechanical milling mode. An atomic force microscope (AFM) tip is replaced by a lab-made Si cantilever with a polycrystalline diamond (PCD) tool. Mechanical cutting by PCD tool enables simple fabrication of micro molds with several tens of nanometers depth. Machined cavities of the Si substrate are prepared as a master mold for additional micro molding using polydimethylsiloxane (PDMS). Micro cavities are successfully duplicated in positive patterns similar to soft lithography. Normal loads of cantilever and AFM topographical images are used to discuss micro mold and micro molding characteristics.
机译:已经开发了一种直接机械纳米机,摩擦纳米光刻(TNL),以在机械研磨模式下制造在Si衬底上的微模。 原子力显微镜(AFM)尖端由具有多晶金刚石(PCD)工具的实验室制造的Si悬臂代替。 PCD工具的机械切割使得能够简单地制造具有几十纳米深度的微模制。 使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)制备Si衬底的机加工腔作为母模,用于额外的微模具。 微腔以类似于软光刻的正图案成功复制。 悬臂和AFM地形图像的正常载荷用于讨论微模和微模制特性。

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