...
机译:纳米结构CR掺杂CDO薄膜表面形态,电气和光学性能的退火效应
Anil Neerukonda Inst Technol &
Sci Autonomous Dept Phys Visakhapatnam 531162 Andhra Pradesh India;
GITAM Univ GITAM Inst Technol Dept Phys Visakhapatnam 530045 Andhra Pradesh India;
Sri Krishnadevaraya Univ Dept Phys Mat Res Lab Anantapur 515003 Andhra Pradesh India;
Thin films; DC magnetron sputtering; structural properties; electrical properties; optical constants;
机译:纳米结构CR掺杂CDO薄膜表面形态,电气和光学性能的退火效应
机译:还原气氛中退火和后退火对纳米结构ATZO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:直流磁控反应溅射和氧后退火制备的纳米结构VO_x薄膜的电学和光学性质
机译:喷雾沉积锂掺杂CDO薄膜的结构,形态,光学和电性能
机译:杂交氧化锌/聚合物薄膜和纳米结构的合成,电性能和光学表征
机译:非真空沉积p型氧化镍薄膜的形貌光学和电学性质
机译:掺杂浓度对mn掺杂CdO薄膜结构,形貌,光学和电学性能的影响
机译:Cr掺杂和非化学计量V2O3薄膜的电学,结构和光学性质(预印本)