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机译:在SiO2,TiO2,Al2O3和HFO2的等离子体辅助原子层沉积过程中膜胶合性和o原子的重组概率
Eindhoven Univ Technol POB 513 NL-5600 MB Eindhoven Netherlands;
VTT Tech Res Ctr Finland Tietotie 3 Espoo 02044 Finland;
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Eindhoven Univ Technol POB 513 NL-5600 MB Eindhoven Netherlands;
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机译:在SiO2,TiO2,Al2O3和HFO2的等离子体辅助原子层沉积期间O原子的膜胶合性和提取的重组概率(Vol 123,PG 27030,2019)
机译:TiO2 / Al2O3纳米烷基纳米烷,Al2O3和TiO 2通过原子层沉积产生的TiO2 / Al2O3纳米烷基的行为
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机译:烧成后等离子体辅助原子层沉积沉积AL2O3薄膜的气泡控制研究
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机译:在纤维素纳米原纤维自立膜上构建的SiO2 / Al2O3多层结构的低温原子层沉积
机译:在SiO2,TiO2,Al2O3和HFO2的等离子体辅助原子层沉积过程中膜胶合性和o原子的重组概率
机译:原子层沉积法制备TiO2 / siO2催化剂的表面酸性和性质:紫外 - 可见漫反射,DRIFTs和可见拉曼光谱研究