...
机译:高压下TMO2(TM = Zr或HF)纳米结构的机械性能和带结构的第一原理研究
SASTRA Deemed Univ Sch Mech Engn Tirumalaisamudram 613401 Thanjavur India;
SASTRA Deemed Univ Sch Elect &
Elect Engn Tirumalaisamudram 613401 Thanjavur India;
SASTRA Deemed Univ Sch Elect &
Elect Engn Tirumalaisamudram 613401 Thanjavur India;
ZrO2; HfO2; High pressure; Band gap; Nanostructures;
机译:高压下TMO2(TM = Zr或HF)纳米结构的机械性能和带结构的第一原理研究
机译:高压下马氏体结构TMN2(TM = Ru,Rh,Os和Ir)的结构,力学,电子和热力学性质:第一性原理研究
机译:OSTM和TMOS_2的结构,机械和电子性质(TM = TI,ZR和HF):第一原理计算
机译:Fe / TMC(TM = TI,ZR和HF)接口原子结构的第一原理研究
机译:纳米结构的物理和化学性质的第一性原理研究。
机译:新型硼相在高压下的相变力学性能和电子结构:第一性原理研究
机译:高压下CDSE和CDTE纳米结构的机械性能和带结构 - 一种原则研究