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机译:物理等离子体蚀刻处理对光学和亲水性MgF2薄膜的影响
Malek Ashtar Univ Technol Fac Mat Sci &
Engn Shahin Shahr Esfahan Iran;
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Engn Shahin Shahr Esfahan Iran;
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Thin films; Optical properties; Superhydrophilic properties; Plasma etching;
机译:物理等离子体蚀刻处理对光学和亲水性MgF2薄膜的影响
机译:射频功率对等离子体聚合环己烷薄膜物理和光学性能的影响
机译:TiO2掺杂氧化锌薄膜的物理性质:H-2和/或Ar气体环境中等离子体处理的影响
机译:氮浓度对等离子体溅射沉积N掺杂二氧化钛薄膜光诱导亲水性的影响
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:空气等离子体处理在TiO2薄膜中形成氧空位和Ti3 +态并增强光学性能
机译:受PMMA基材等离子体处理影响的蒸发MGF2薄膜的性质。