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机译:单层表面接枝PMMA作为负色调电子束抗蚀剂
Univ Waterloo Dept Elect &
Comp Engn 200 Univ Ave West Waterloo ON N2L 3G1 Canada;
机译:单层表面接枝PMMA作为负色调电子束抗蚀剂
机译:使用正性光刻胶ZEP520 / P(MMA-MAA)/ PMMA三层膜通过在50 kV电子束光刻下两次曝光进行亚100 nm T栅极制造
机译:使用PMMA作为正负抗蚀剂的超低压电子束光刻制造的纳米结构的密度倍增
机译:双层PMMA-P(MMA-MAA)抗蚀剂系统中的精细底切控制,用于亚微米分辨率的电子束光刻
机译:两种不同类型的自组装单层的红外吸收研究:从水溶液中沉积的烷硫醇和使用金属上层衰减全反射率(ATR)和单反射锗衰减全反射率(GATR)的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的表面受限聚合。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:CsaR 62作为高对比度电子束光刻的负色调抗蚀剂 温度在4 K和室温之间