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机译:由原子层沉积制成的2D MOS(2)的等离子体辅助摩擦控制
Southeast Univ Sch Mech Engn Nanjing 211189 Peoples R China;
Nanjing Vocat Univ Ind Technol Nanjing 210023 Peoples R China;
Southeast Univ Sch Mech Engn Nanjing 211189 Peoples R China;
MoS(2)film; atomic layer deposition; plasma treatment; friction control;
机译:由原子层沉积制成的2D MOS(2)的等离子体辅助摩擦控制
机译:等离子体辅助原子层控制沉积形成的Al {sub} 2O {sub} 3与铁磁隧道结的磁阻
机译:等离子体辅助原子层控制沉积形成的Al {sub} 2O {sub} 3与铁磁隧道结的磁阻
机译:烧成后等离子体辅助原子层沉积沉积AL2O3薄膜的气泡控制研究
机译:自组装介孔低k电介质上的共形纳米帽层的等离子体辅助原子层沉积。
机译:Al2O3的等离子体辅助原子层沉积和聚对二甲苯C双层封装用于慢性植入式电子产品
机译:等离子辅助原子层沉积中的再沉积:氮化硅膜的质量受气体停留时间的影响