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机译:eBT-XD Gafchromic薄膜三种校准方法对SRS计划的编号验证的影响
机译:eBT-XD Gafchromic薄膜三种校准方法对SRS计划的编号验证的影响
机译:SU-F-T-219:使用EBT3-Gafchromic薄膜剂量测定法为质子处理规划产生的相对停止功率(RSP)的准确性验证Hounsfield单元(HU)校准曲线
机译:使用基于计划的校准方法,将GafChromic RTQA2膜扩展到患者质量保证领域
机译:GafChromic EBT膜的能量依赖性研究,用于IMRT计划的预处理剂量学验证
机译:MLC定义的保形弧与Varian Edge(TM)上单分数SRS的立体定向锥面方案的回顾性剂量学比较
机译:剂量学表征和GAFCHROMIC EBT3膜用于IMRT剂量验证
机译:Gafchromic EBT2胶片剂量学在反射模式下具有新颖性 基于计划的校准方法