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机译:使用ECR-PEMOCVD在非晶态Ni /玻璃衬底上低温生长高c取向的GaN晶体
Gallium nitride (GaN); Glass substrate; Plasma-enhanced metal organic chemical; vapor deposition system (ECR-PEMOCVD); Low temperature growth;
机译:使用ECR-PEMOCVD在非晶态Ni /玻璃衬底上低温生长高c取向的GaN晶体
机译:用低温ECR-PEMOCVD在非晶态Cu /玻璃衬底上生长高c取向的GaN晶体
机译:高质量结晶氮化镓薄膜的低温ECR-PEMOCVD沉积:用于非晶玻璃基板上生长的中间层的比较研究
机译:ECR-PEMOCVD在不锈钢基材上沉积GaN薄膜的生长温度
机译:通过微波等离子体沉积技术的薄膜硅:非晶硅/晶体硅太阳能电池中的生长和器件以及界面效应。
机译:在高度c轴取向的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜中具有超低应变滞后的大压电应变并且在非晶玻璃基板上呈柱状生长
机译:勘误:“使用低温生长技术在近晶格匹配的铪基板上外延生长GaN薄膜”[apL mater。 4,076104(2016)]
机译:非晶态Ni-Nb与晶体au膜反应的早期阶段