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机译:Y-O3在h-BN上的原子层沉积,用于石墨烯FET中的堆叠
dielectric constant; capacitance; molecular electronegativity;
机译:Y-O3在h-BN上的原子层沉积,用于石墨烯FET中的堆叠
机译:Co(0001)上h-BN(0001)多层的原子层外延和h-BN(0001)/ Co(0001)上石墨烯的分子束外延生长
机译:通过大气压化学气相沉积层下石墨烯的生长晶片尺寸的伯爵堆叠双层石墨烯和石墨烯泡沫
机译:使用钛氧基酞菁种子层的低泄漏WSe
机译:使用基于臭氧的ALD(原子层沉积)的高K电介质沉积(氧化铝),用于石墨烯基器件。
机译:单层氧化钛的原子层沉积石墨烯:关于了解成核和原子化的原子尺度研究成长性
机译:通过离子束溅射在石墨烯上沉积h-BN来合成杂化h-BNC的原子层