超低露点清浄空気(CDA)供給装置：少風量可搬型CDA供給装置「CDASS-mini」

摘要

最近、半導体製造においてウエハ搬送を含む生産環境の局所化が始まり、半導体製造ラインのストッカや搬送系に超低湿度で清浄なガスを導入するシステムが提案されている。また有機ELディスプレイなど、製造工程において水分を極端に嫌うデバイスも、最近になって量産され始めた。 これらの用途には露点温度-110℃(1.6 vol ppb)～-90℃(96 vol ppb)の超低湿度で高純度の乾燥ガスが要求され、これまでは窒素ガスが使用されていた。 しかし、ランニングコストや安全対策に関する設備コストの削減が課題であった。