空気清浄のためのAMCsの分析評価方法(I)：最近の汚染物質評価について

摘要

半導体製造におけるクリーンルーム環境やウェーハ表面のコンタミネーション管理は従来までのパーティクルに加えて分子状汚染物質(Airborne Molecular Contaminants: AMCs)、あるいは表面分子状汚染物質(Surface Molecular Contaminants: SMCs)の制御が重要であることはもはや常識となっており、半導体デバイスの製造において歩留まりや、デバイス製造上のトラブルに大きく係わってきている。 このような汚染物質は有機物質や酸性、塩基性物質、さらにはB、Pのようなドーパントに代表される化学物質であり、AMCsやSMCsによるデバイス製造におけるトラブル事例も実際に報告されている。このような背景でITRSロードマップ(International Technology Roadmap of Semiconductor)においてはクリーンルーム環境やウェーハ表面のAMCs、SMCsの要求清浄度が示されており、半導体デバイスの微細化が進むに伴い、要求される管理濃度も極微量な水準となっている。