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富士通あきる野テクノロジセンターのクリーンルーム

机译:富士通秋留野技术中心的洁净室

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摘要

富士通電子デバイスグループでは、システムLSI、フラッシュメモリ、化合物半導体、SAWフイルタ、PDP、LCDといった最先端技術に基づく高村加価値デバイスに量点を置き、デバイステクノロジの面から、インターネット·ソリューションを提供している。 こうした中、更なる開発力の強化と開発効率を高めるため、LSIの開発·設計部門を00年7月より順次あきる野に集結させ操業を開始した。 その後、01年12月には局所クリーン化方式を全面的に採用した新クリーンルーム(CR)を用い、世界に先駆けて90 ナノメートル(nm)ノードの最先端LSI の試作量産を行うプロセス棟を竣工させた。 集結状況を図1に示す。
机译:富士通电子设备事业部致力于基于系统LSI,闪存,化合物半导体,SAW滤波器,PDP和LCD等尖端技术的高村增值设备,并提供有关设备技术的Internet解决方案。有。在这种情况下,为了进一步增强开发能力和提高开发效率,LSI开发设计部门于2000年7月相继集结在Akino领域并开始运营。之后,在2001年12月,通过使用完全采用本地清洁方法的新洁净室(CR),完成了一个工艺工厂,以批量生产世界上最先进的90纳米(nm)节点的LSI。我让你。图1显示了聚集情况。

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