【24h】

中性子起因SEMTの電源電圧及び基板バイアス依存性測定

机译:中子诱导的SEMT的电源电压和衬底偏置依赖性的测量

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摘要

本稿では,中性子起因一過性複数パルス(SEMT)の測定結果を示す.まずSEMT測定回路を提案し,65nm プロセスで試作したテストチップを用いてSEMTの電源電圧·基板バイアス依存性を評価する.測定結果から,同一ウェル内の6個の隣接したインバータで同時にパルスが発生しうること,一過性パルス(SET)に占めるSEMTの割合が,電源電圧0.7V,逆基板バイアス印加時に40%に達することを示す.また,SEMTの空間的な分布とソフトエラー有感領域間の距離の関係も議論する.最後に,一過性単一パルス(SEST)と一過性単一反転(SESU)の発生確率から,SEMTの測定結果の妥当性を検証する.
机译:本文显示了由中子引起的瞬态多脉冲(SEMT)的测量结果。首先,我们提出一种SEMT测量电路,并使用在65 nm工艺中原型化的测试芯片来评估SEMT的电源电压和衬底偏置依赖性。根据测量结果,可以在同一孔中与6个相邻的逆变器同时产生脉冲,当施加电源电压时SEMT与瞬态脉冲(SET)之比为0.7V,当施加反向基板偏置时为40%。显示达到目标。我们还讨论了SEMT的空间分布与软错误敏感区域之间的距离之间的关系。最后,从瞬态单脉冲(SEST)和瞬态单反转(SESU)发生的可能性验证了SEMT测量结果的有效性。

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