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東京応化、相模事業所の研究開発拠点建設費を24億円増の89億円に

机译:东京都相模工厂的冈田R&D基地建设成本增加24亿日元,至89亿日元

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摘要

東京応化工業は、相模事業所で建設を計画している半導体製造用フォトレジスト研究開発拠点の投資規模を24億円増の89億円に増やす。 完成後、2年以内に検査·露光装置などの最新鋭の研究機器を追加導入するためで、建屋は2月の着工、12月の完成を予定している。 建屋規模は6階建て延床面積約5,900m~2。
机译:东京Oka Kogyo将把相模工厂计划建设的半导体制造用光刻胶研发基地的投资规模增加到89亿日元,增加了24亿日元。该建筑计划于2月开始建造,并于12月竣工,以便在竣工后两年内引入其他最先进的研究设备,例如检查和曝光设备。该建筑的规模为6层,总建筑面积约为5,900m〜2。

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  • 来源
    《石油化学新報》 |2005年第3929期|共2页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 石油化学工业;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-19 11:15:22

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