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SEM式ナノプロービングシステムの開発と半導体デバイス解析への応用

机译:SEM纳米探测系统的开发及其在半导体器件分析中的应用

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摘要

近年のLSI故障解析ではデバイスの微細化,構造の複雑化に伴い,詳細な故障箇所同定が困難となっている.これに対応するための技術として走査電子顕微鏡(SEM)を用いたナノプロービングシステムが開発された.SEM式ナノプロービングシステムではSEMで観察しながら,トランジスタや配線に徽経探針を接触させ,電気特性を計測する.本稿ではSEM式ナノプロービングシステムの実用化に対する開発課題(微細箇所へのプロービング可能な探針形状,高精度,高信頼測定のためのプロープ一読料間接触抵抗低減,探針長寿命化,高スループット化の為の高精度迅速プローブ動作制御,迅速プローブ交換,使いやすさのためのSEMの高画質化,広視野化など)および実際の解析事例について概説する.
机译:在最近的LSI故障分析中,由于设备的小型化和结构的复杂性,已经难以确定详细的故障位置。已经开发出使用扫描电子显微镜(SEM)的纳米探测系统作为解决该问题的技术。在SEM纳米探测系统中,在用SEM观察的同时,通过使晶体管和导线与探针接触来测量电特性。本文针对SEM纳米探测系统的实际应用(可探测到细小点的探头形状,高精度,减小探头读数之间的接触电阻以实现高度可靠的测量,较长的探头寿命,高通量)进行开发概述了用于高精度,快速探针更换,易于使用的SEM高图像质量,拓宽视野等的高精度快速探针操作控制以及实际分析示例。

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