フリーンルームおよび関連する制御環境中における分子状汚染物質に関する空気清浄度の表記方法あよび測定方法指針（改正案）

摘要

クリーンルーム空気中の分子状汚染物質（Airborne Molecular Contaminant：AMC）は、近年半導体産業を始めとする先端産業の汚染要因の一つとして重要視されてきている。 粒子に関する空気清浄度に関しては、JIS B 9920－2002クリーンルームの空気清浄度の評価方法、ISO 14644-1「Cieanrooms and associated controlled environments-Part1：Classification of air cleanliness」が既に出されている。 しかしながら、AMCsに関しては、空気清浄度の表記方法がないところから、2000年3月にAMCsの空気清浄度を規定した「クリーンルームおよび関連する制御環境中における分子状汚染物質に関する空気清浄度の表記方法および測定方法指針」JACA No.35-2000にはその記述は無い。 その後の状況の変化の中で、ITRS Roadmap1997にAMCsの1つとして金属が採用されていることから、また金属の汚染の概念が定着してきたことから、JACA No.35-2000に金属の項を追加することが必要となってきた。 この様なことから、JACA No.35－2000に附属書5として金属に関する測定方法と、具体的な方法が現在まで述べられていなかった基板表面暴露による測定方法を附属書6として追加した。 「クリーンルームおよび関連する制御環境中における分子状汚染物質に関する空気清浄度の表記方法および測定方法指針（改正案）」を作成したので本書で報告する。本号に掲載するに至った。 なお、本指針は英語版も作成しており、海外の関心を持つ人々とも情報を共有できるように配慮している。 今後は、本指針に関する意見を頂くとともに、ISO/TC209/WG 8（Molecular contamination classification）にも積極的に提案していくものである。