半導体工場のケミカル汚染対策

摘要

有機、酸、塩基性ガス、ドーパントの4種類の汚染源に分け、それぞれ低減化対策について述べてきた。 ケミカル汚染対策として共通に言えることは、汚染源の低減、クリーンルームや装置め構成部財の低揮発材料の選定·適用、さらにケミカルエアフィルタの適用である。 汚染源の低減、低揮発量の材料選定については、クリーンルーム、建屋、装置などウェーハを取り巻く環境全体で対策する必要があり、総合的な対応が求められる。これに対し、ケミカルエアフィルタの適用は、粒子対策が局所化対応の動きを強めているに呼応し、局所化を視野にいれた対応となろう。いずれにしても、ケミカル汚染に対する取組みは、デバイスメーカー、装置メーカー、そしてクリーンルーム設備業者などが連携した総合的な対策が必要不可欠である。