交流インピーダンス測定による錫酸化皮膜の電気特性

摘要

コネクタの端子材料として使用される錫めっき表面は常に錫酸化皮膜で覆われており、コネクタの耐食性は酸化皮膜によって保たれている。しかし、酸化皮膜の存在は接触抵抗を高め接触信頼性を害する恐れがある。本研究では、湿度30％RHで放置された錫酸化皮膜の成長と抵抗率·比誘電率を交流源とロックインアンプによる交流インピーダンス測定を使用して同時評価した。測定には電気特性を正確に評価するために錫めっき面に金蒸着を電極とし、液体金属を使用した。その結果、酸化皮膜の比誘電率は6.5、抵抗率は2.5×10~4Ωmと評価できた。また、酸化皮膜は放置時間500hまでで10nm程度に成長し、その後は飽和した。接触抵抗も皮膜成長と同傾向を示し500hで10Ω程度であった。