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【24h】

超微細シリカ凝集砥粒を用いた研磨フィルムによるシリコンウェーハのエッジ仕上げ-高生産性研磨フィルムの開発

机译:使用超细二氧化硅聚结的磨料颗粒对带有抛光膜的硅晶片进行边缘精加工-开发高生产率抛光膜

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摘要

シリコンクェーハの製造工程において,ウェーハエツジは研削加工後に軟質な研磨パッドと超微細シリカスラリーを用いた研磨仕上げが行われている.しかし遊離砥粒に起因する低い加工能率,高いランニングコスト,廃液処理等に関する問題が顕在化しており,これらを解決することを目的に固定砥粒加工工具として超微細シリカを凝集させた粉末を砥粒に用いた研磨フィルムの開発を行っている.本論文ではこの研磨フィルムの加工特性として特に加工能率を向上させるために,研磨フィルムの構成要素として結合剤樹脂の弾性,砥粒密度そして砥粒の凝集力について最適化を図った.これにより前加工面粗さ0.2μmRyの8インチシリコンウェーハエツジを加工時間1.5分で36nmRy程度のスクラッチフリーの鏡面に仕上げることができ,実際の生産プロセスヘ適用可能であることを見い出した.
机译:在硅晶格制造工艺中,先将晶圆边缘研磨,然后使用软抛光垫和超细二氧化硅浆料抛光。然而,由于游离磨粒而引起的与低处理效率,高运行成本,废液处理等有关的问题已经变得明显,并且为了解决这些问题,将具有团聚的超细二氧化硅的粉末用作固定的磨粒处理工具。我们正在开发用于谷物的抛光膜。在本文中,为了提高抛光膜的加工效率,我们优化了粘结剂树脂的弹性,磨粒密度和作为抛光膜成分的磨粒的聚集力。结果发现,经过预处理的表面粗糙度为0.2μmRy的8英寸硅片边缘可以在1.5分钟内加工成无划痕的镜面,处理时间约为36 nm Ry,并且可以应用于实际生产过程。

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