活性炭ハニカム型フィルタ

摘要

半導体製造環境を改善する方法としては、ケミカルフィルタを用いて製造プロセスで弊害となるガス成分を除去する方法が最も単純であるが、製造過程で要求される管理濃度は低下の一途を辿り、管理濃度が下がる度にケミカルフィルタで対処することはフィルタの厚みを肥大させ、次第に大掛かりな設備が必要となる。自プロセスあるいは自社工場より発生する成分についてはケミカルフィルタで対処する前に、発生源に対策を施すことが根本解決となる。 一方、硫化水素等自然環境及び自社での影響力が及ばない周囲の環境に由来する成分については、製造工程に持ち込まないことが前提であり、かつ重要である。 即ち、外気処理の段階で除去することが肝要である。