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Etude des structures electroniques de In_2O_3 pur et dope avec I'etain

机译:掺锡的纯In_2O_3电子结构的研究

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摘要

Investigation of the electronic structures of pure and tin-doped In_2O_3.The electronic structures of the sesquioxide In_2O_3 and Sn-doped In_2O_3 are examined both self-consisenlty within the ab initio localdensity functional theory and using the non self-consistent extended Huckel method.A direct band gap and a wide dispersion of the bottom of the conduction band are obtained in the non-doped case.In the doped case,a narrow,half-filled band assigned to Sn is foundat the bottom of the conduction band,inagreement with the metallic and transparent characteristics observed experimentally.
机译:研究纯的和掺杂锡的In_2O_3的电子结构。从头算局部密度泛函理论出发,使用非自洽扩展Huckel方法研究了倍半氧化物In_2O_3和Sn掺杂的In_2O_3的电子结构。在非掺杂情况下,获得了直接带隙和导带底部的宽色散。在掺杂情况下,在导带的底部发现了一个分配给Sn的窄而半填充的带,与实验观察到的金属和透明特性。

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