Исследованы процессы электроосаждения индивидуальных никелевых и композиционных Ni-Si02 покрытий с различным содержанием включенной фазы из разбавленных сульфатно-хлоридно-малат-ных электролитов при температурах 20-40°С с использованием нанодисперсного Si02. Изучены особенности включения оксидной фазы в металлическую матрицу при электрокристаллизации и влияние содержания включенной фазы на микротвердость, шероховатость, паяемость, коррозионную стойкость полученных композиционных покрытий. Определены условия электроосаждения из малотоксичного электролита при пониженной температуре композиционного покрытия Ni-SiO_2, перспективного для замены химически осажденного никеля в производствах полупроводниковых приборов и интегральных схем.
展开▼
