影响Ni-SiO2复合镀层的电沉积速率因素分析

摘要

采用控电流电沉积技术以铜为基体制备了Ni-SiO2纳米微粒复合镀层.通过改变电流密度、电镀时间及镀液中纳米SiO2微粒的浓度,考察了各因素对复合镀层电沉积速率的影响.结果表明,镀液中微粒含量为15 g·L-1,阴极电流密度为1.5 A·dm-2且电镀时间约为30min时,复合镀层的电沉积速率较大且所得镀层的表面更致密、平整.