薄膜作製のイ口ノ?á，真空蒸着法とスパッ夕リング法

摘要

原子や分子の堆積による薄膜作製技術は，電子デバイスや電子機器，光学部品などのさまざまな産業分野において不可欠な技術であるとともに，未知の物質の合成を可能にする大きな魅力を有している．その最も基本的な技術である真空蒸着法とスパッ夕リング法について，その原理と特徴を述べる．